双面批量加工设备
最大工件可达直径260mm,50mm厚
为工件的高精密加工而设计,适用于研磨和抛光。
“Macro”系列采用创新的(MWH)设计理念。所有定位及精磨时的线性动作均由精磨头实现。与传统的立柱移动和工作台移动不同,本机各轴采用紧凑结构,可实现最佳受力分布及最小的受热变化,这些特性使得设备实现长期、最佳的加工控制。
可根据加工要求为客户定制各类不同形状贴片的高质量金刚石或立方氮化硼(CBN)材质精磨盘,该系列精磨盘为客户获得高切削率、高质量的平面度、平行度、表面粗糙度等提供了保障,产品广泛应用于铜、粉末冶金、钢、陶瓷、玻璃、蓝宝石、硬质合金等金属和非金属的加工。
半导体行业的定制解决方案LAPMASTER WOLTERS 是半导体客户在硅片及LED硅片加工领域内众所周知的、可靠的合作伙伴。 LAPMASTER WOLTERS为客户提供定制的硅片和基质精密表面加工技术解决方案。服务领域为用于微电子、微光学和微机械设备制造的硅片、蓝宝石、砷化镓、碳化硅等材料。我们的研磨、精磨和抛光机加工后工件的局部和整体几何形状均具有领先优势。“LAPMASTER WOLTE
Lapmaster Wolters提供用于平面研磨、抛光加工及内孔表面加工的各种规格的传统磨料、金刚石磨料、抛光液、研磨膏、抛光布、油石条及金刚石铰刀等耗材。产品可广泛应用于各类金属和非金属材料的加工。
光学平面莱玛特光学平面选用热膨胀系数低且耐磨性好的石英玻璃,采用最新技术加工而成。光学平面分为单面使用和双面使用两种,其直径范围为ф25mm-ф300mm,光学精度分为1/2光带,1/4光带和1/10光带。单色光检测仪莱玛特单色光检测仪与光学平面配合使用可以用于检测大多数反射和半反射工件的平面度,检测仪使用钠光和氦光两种光源。型号有:钠光光源ML-18 ML-35 氦光光源 CP-1 CP-2
LAPMASTER WOLTERS AC 1000 双端面加工设备为工件的批量精加工而设计。AC 1000通过采用模块化设计,可用于精密磨削、研磨、以及抛光加工。
LAPMASTER WOLTERS AC 2000 双端面加工设备为工件的批量精加工而设计。AC 2000通过采用模块化设计,可用于精密磨削、研磨、以及抛光加工。
Lapmaster WoIters集团生产的SS-15H台式研磨机,是对平面度和光洁度有非常高要求的工件加工的理想之选。研磨液通过分配管路供给每个修整环。供给泵可将多出需要量的研磨液输送至供给管路。多余的研磨液将通过倾斜的回流管线流回至研磨液桶内。此回流功能和搅拌器的搅拌作用可以防止磨料颗粒在研磨油中沉淀。该设备标准配置使用松散研磨剂。根据客户要求,也可选配水和金刚石乳液。
LapmasterWolters84设备研磨盘的直径为2134mm。研磨盘由HT300灰铸铁制造而成,满足ISO185(2005)标准。研磨盘和支撑盘用螺丝紧固连接。抛光液通过供给管路分配给各修整环,各管路带单独流量控制阀。由于该设备没有工作台,调整臂可以垂直和侧向调整,所以可以补偿研磨盘由于长时间使用时产生的正常磨损。过剩的研磨剂通过倾斜的排放管路可以流回到研磨剂供给箱内。另外,搅拌器的连续搅动